2026年3月，联合创始人王阳元、长江存储董事长陈南翔等半导体产业领军人物联合发布报告实盘配资平台是否有客服，直指中国集成电路产业的核心痛点——光刻机技术被“卡脖子”。这份名为《构建自主可控的集成电路产业体系》的提案，呼吁举国之力打造国产EUV光刻机，目标直指荷兰ASML的垄断地位。
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中国半导体产业的困境早已不是秘密。全球市场份额近35%的消费市场背后，是EDA工具、高端设备和关键材料90%以上的进口依赖。美国的技术封锁让这一短板暴露无遗：海思虽能设计出7nm芯片，却因制造设备受限无法量产；长江存储虽突破3D NAND技术，但核心光刻机仍需从ASML采购。数据显示，国内涉及光刻机的企业超2000家，但缺乏整合，技术碎片化严重。
技术突围的关键在于“集中力量办大事”。ASML的EUV光刻机虽由一家公司主导，但其背后是5000余家供应商的协同。中国已具备部分核心技术：长春光机所的EUV光源、清华大学的光学系统、上海微电子的刻蚀机均取得突破。问题在于如何将这些分散的技术整合成整机。报告提出，需建立类似“两弹一星”的国家级统筹机制，打破企业壁垒，实现资源共享。、中微半导体等头部企业已开始联合攻关，北方华创的14nm刻蚀机已进入中芯国际产线，这是国产设备替代的里程碑。
产业链重构迫在眉睫。中国半导体企业数量庞大但规模小，3626家设计公司中87.9%为小微企业。反观国际巨头，英特尔、三星等既是设计龙头，又掌控先进制程。报告建议，通过并购整合培育“国家队”，例如新紫光集团通过收购整合封测、存储产能，年营收突破1800亿元。政策层面，大基金三期3440亿元的投入将重点支持设备与材料，长江存储、中芯国际等企业已获得超百亿元注资。
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市场与政策的双轮驱动正在改变产业生态。2024年，中国芯片出口额达1.2万亿元，首次超越进口增速。国产替代加速：兆易创新的NOR闪存全球市占率26%，韦尔股份收购豪威科技后跻身全球图像传感器前三。地方政府也加入战局，上海设立500亿元集成电路基金，合肥、武汉等地打造存储芯片集群。但挑战依然严峻：全球光刻机市场被ASML、尼康、佳能垄断，国产EUV需攻克超精密光学、超高真空等90%的“卡脖子”技术。
十五五规划将成转折点。报告提出五大目标：芯片自给率80%、28nm全产业链自主、7nm产线试产、建设先进工艺验证平台、基础研究引领全球。若能实现，中国将告别“大而不强”的尴尬。华为的5G芯片、长江存储的PCIe 4.0固态硬盘、中芯国际的14nm芯片已证明技术路径可行。下一步，需将“实验室突破”转化为“量产能力”，这需要至少5年的持续投入。
历史经验表明，半导体产业的竞争本质上是生态系统的较量。ASML的成功离不开英特尔、台积电的资本与技术反哺，而中国拥有全球最大的应用市场——每年进口超4000亿美元的芯片，这是最天然的试验场。当政策、资本、技术形成合力，国产ASML或许不再是遥不可及的梦想。毕竟，光刻机的齿轮一旦转动，便再难停下。
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